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SW-8400ⅢDF SW-12400ⅢDF 硅片用脱气采集装置
SW-8400ⅢDF SW-12400ⅢDF 硅片用脱气采集装置

SW-8400ⅢDF SW-12400ⅢDF 硅片用脱气采集装置

  可以进行8英寸或6英寸表面的挥发成分采集(SW-8400IIIDF)。

  可以进行12英寸表面的挥发成分采集(SW-12400IIIDF)。

  通过采集管进行采集,因此没有死体积,可以进行微量成分的检出。

  只采集表面发生气体,背面发生气体通过真空泵排出。

  可以实现最高500℃的加热

  采用触控屏进行操作,控制非常简单。

  脱气被PAT管(内容积10mL、Tenax GR)捕集。如果通过选配接口,也可以使用其他厂商的捕集管。

  设备标配过热防止装置、舱门闭锁装置,紧急停止按键以及漏水感应器(选配)等安全装置。

  同时有多段升温捕集、分流采集、样品管电子冷却等功能可供选配。

  石英加热炉(倒悬)

  石英加热炉采用倒悬方式,石英板完全罩住硅晶片(SW),经石英板表面捕集气体。

  吹扫气通过预热管线后,沿着固定在加热炉顶部的石英顶板外壁流动,从外围导入硅晶片中心表面。

  硅晶片的背面用真空泵抽空,完全排出硅晶片背面产生的气体。